EUVリソグラフィー装置の開発

エネルギー効率が大幅に向上し、半導体製造の資本コストが削減される、革新的なEUVリソグラフィ技術の開発

EUV lithography image

EUV リソグラフィーは、半導体を作成するための重要な基盤技術の1つです。

新竹が設計した新しいEUVリソグラフィー露光装置は、従来より小型のEUV光源で動作することが可能なため、電力消費量が10分の1以下となり、製造コストの削減や機械の高寿命化が期待されます。半導体産業におけるサステナブルを実現する新しい技術です。

我々の技術では、この分野で克服不可能と考えられていた課題を、以下の2つの方法で解決することができます。

・2つのミラーのみで構成される新しい光学投影システム

・光路を遮ることなく、平面ミラー(フォトマスク)上のロジックパターンにEUV光を効率的に向ける技術

本技術の詳細は、2024年7月29日にOISTから出されたプレスリリースをご確認ください。

また、詳細な光学システムのシミュレーション結果については、下記より論文をご参照下さい。

(外部リンクに接続します)

Can we improve the energy efficiency of EUV lithography?arXiv:2405.11717

現在、可視光を利用したデモ装置の設計・試作に取り組んでいます。

EUV demo machine