エネルギー効率が大幅に向上し、半導体製造の資本コストが削減される、革新的なEUVリソグラフィ技術の開発
EUV リソグラフィーは、半導体を作成するための重要な基盤技術の１つです。
新竹が設計した新しいEUVリソグラフィー露光装置は、従来より小型のEUV光源で動作することが可能なため、電力消費量が10分の1以下となり、製造コストの削減や機械の高寿命化が期待されます。半導体産業におけるサステナブルを実現する新しい技術です。
我々の技術では、この分野で克服不可能と考えられていた課題を、以下の２つの方法で解決することができます。
・２つのミラーのみで構成される新しい光学投影システム
・光路を遮ることなく、平面ミラー（フォトマスク）上のロジックパターンにEUV光を効率的に向ける技術
本技術の詳細は、2024年7月29日にOISTから出されたプレスリリースをご確認ください。
また、詳細な光学システムのシミュレーション結果については、下記より論文をご参照下さい。
（外部リンクに接続します）
Can we improve the energy efficiency of EUV lithography?arXiv:2405.11717
現在、可視光を利用したデモ装置の設計・試作に取り組んでいます。
