ガラス基板上にガラスを付着させるマイクロレーザーの新作製法
ガラスウェッティング新方式でマイクロレーザーを作製。イッテルビウムもしくはエルビウムを添加したリン酸塩ガラス（融解温度：摂氏500度）を溶かし、ケイ素（溶解温度：摂氏1500度）の中空毛細管の周囲に流し込む。
ガラスウェッティング新方式でマイクロレーザーを作製。イッテルビウムもしくはエルビウムを添加したリン酸塩ガラス（融解温度：摂氏500度）を溶かし、ケイ素（溶解温度：摂氏1500度）の中空毛細管の周囲に流し込む。
日付:
2016年3月7日
Copyright OIST (Okinawa Institute of Science and Technology Graduate University, 沖縄科学技術大学院大学). Creative Commons Attribution 4.0 International License (CC BY 4.0).
シェア：
