機材

半導体、金属薄膜、光学材料の精密加工が可能。フラットパネルディスプレイや先端電子デバイスへの応用に対応。

運動協調 / 運動学習

ZEISS O-INSPECTマルチセンサー測定機は、ISO-10360規格に準拠し、さまざまな特性を高精度で光学式および接触式で測定します。

OV-CFMシステムは、モジュール設計を採用し、独自技術により極低温冷凍機と光学ベクトルマグネットを統合し、精密な可変磁場制御を実現しています。

多波長機能を備え、可視から近赤外スペクトルをカバーする自動共焦点ラマン顏微鏡。 分子および材料の精密な特性評価が可能。

高精度3Dイメージング、表面粗さ解析、形状測定が可能な共焦点レーザー顕微鏡。自動車およびエレクトロニクス産業の品質管理、研究開発、製造を支援。

ゼータサイザーナノZSは、粒子径を動的光散乱法で、ゼータ電位をレーザードップラー法で、分子量を静的光散乱法で測定することができます。

XtaLAB PROシリーズ回折装置 ・シャッターレスで低ノイズのデータ取得を可能にするHPAD検出器を搭載 ・低分子および高分子の精密な結晶構造解析を実現。

単結晶X線回折装置：単結晶を非破壊で解析し、単位胞の寸法を高精度に決定します。 原子構造を解析し、結晶学的特性を明確にします。

Savannahシステムは、逐次的な自己制限型化学反応を利用して、精密なナノスケール薄膜を成膜するために設計された熱原子層堆積（ALD）装置です。

高分解能の表面観察とナノスケール材料解析に適した原子間力顕微鏡（AFM）。

多目的X線回折装置：物質の精密な結晶構造解析に対応する構成可能なシステムで、幅広い科学分野の多様な用途に対応します。

CNC形彫り放電加工機（Chmer社製）。 テーブルサイズ：500 × 350 mm。 精密加工向け。

ギアヘッド設計の手動式縦型フライス盤。シャフト端からテーブルまでの距離は 420 mm 、 フットロールは 250mm で精密な加工が可能。

PH-3515F 投影機は、水平投影照明を採用し、大型・重量ワークの精密測定に適した装置です。

Tennsmith HBU48-16 折り曲げ機は、１６ゲージ軟鉰のボックス曲げ、パン曲げ、ストレート曲げに対応した高耗久性の卸上工具です。