エネルギー効率を飛躍的に高める革新的なEUVリソグラフィー先端半導体製造技術を発表 従来の常識を覆し、わずか4枚の反射ミラーで構成された新型EUVリソグラフィーが7nmノード以降の先端半導体の微細化に貢献。装置コストを削減し国産化も視野に。